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第630章 国产1微米光刻机(第16更,吐血

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几天后,林棋看到蒙欣这段时间很清闲,不免纳闷。

“老婆,林蒙科技的1微米光刻机怎么样了?”林棋问道,“好几年了,去年听你说,就剩下少数几个关键的项目没攻克。”

对于蒙欣的能力,他自然是一百个放心,而且经过了长时间的磨合之后,原本那帮牛气冲天的各领域的天才,已经被调教的很好。

实际上,科研领域的人,虽然有不少弄虚作假的。但真正像新创业系或林蒙科技这种商业为主的研发投入,是绝对容不下弄虚作假。

资本对于回报率的重视,必然会用各种办法将假货、水货给排除在外。剩下的,自然就是真正有本事,能做项目的人。

这些人,自然是对水平比自己高的更加福气。

“实际上,已经成功了,过段时间验收完成,就会公布结果了。”蒙欣鬓发还有些散乱,说到这个立马露出几分自豪。

“真的?”林棋立马停住了筷子,这是个令人振奋的消息,光刻机技术一直都是国内市场的短板,长时间被国外把控。

光刻机的品牌众多,但真正的高精尖技术,一直都是技术难点,高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常在十几纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有7000万美金的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花,制造难度相当大,放眼全球,能够生产的公司也不过寥寥几个,国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。

而我国的光刻机起步比较晚,此时只是在萌芽状态。在后世,国产的光刻机,基本上都是低端市场的产品!

很多人为国内的互联网公司骄傲,但却发现,支撑互联网和硬件的那些关键芯片,很多都不能够国产化。

而制造芯片,最关键的又需要光刻机,以及一系列配套的产业。

但光刻机是绝对是重中之重,自主掌握光刻机的制造和技术升级之后,一系列的半导体的产业,就开始有了根,能够真正的围绕着这种核心制造技术不断的发展,精研!

“我们光刻机,基本上整合了国内有想法有能力的团队,集中了全国最有理想的技术人员,以及跨行业跨学科的专家的廉价甚至无偿的技术支持。虽然,我们出钱,但是,国家实际上,也暗中支持了不少资源,没有举国之力,即使我有大量的未来资料,也不能将这种技术实用化!但是,这次出成果之后就简单了,一下子就把我们国家跟国际上的技术差距从十年以上,拉近到了不到3年。主流的技术厂商,比如日本的半导体工厂,用的光刻机就未必比我们先进,所以,激发了国内业界的斗志和信心。以后,再要由我们来主导这种技术攻关,就不是那么难了!”

蒙欣一下子打开了话匣子,光刻机是林蒙多年研发的成果,突破技术封锁很难,而购买专利可不是那么简单的,这个想法不是没有过,不够几家国际公司的报价几乎是天价。

蒙欣好强的性子被激发,在巨大的资金注入下,终于是取得了不错的成绩。

“太好了,1微米光刻机研发成功,国内半导体工艺水平跟国际先进水平至少缩短到3年,有了这个铺垫,我相信我们很快就可以迎头赶上。”

林棋喜形于色,这可不仅仅是对新创业的功劳,而是一次性提高了国内光刻机水平,可以预见的是,政府在政策上肯定会有倾斜,至于人才,林蒙就有大量的储备,而且每一年都是在物色好的人选,蒙欣开出的工资非常不错,迄今为止,没有出现一个员工流失,让林棋也是不得不佩服。

这样的人才基本都是高精尖,走到哪里都能吃香,他们留下的原因,也绝对不仅仅是因为工资,还有蒙欣的管理手段,虽然开始的时候蒙欣给了他们一个下马威,但效果明显很不错。

“这算什么?我们还有沉浸式光刻技术,这个技术太牛逼了!影响未来几十年,后来欧洲的荷兰ASML彻底一家独大,主要就是因为路线正确,走了沉浸式光刻的路线。而日本的厂商,由于路线错了,在21世纪初,半导体制造工艺卡在65纳米时,从原本光刻机产能领先的国家,迅速的开始变成只能供应中低产光刻机,并且,还在不断失败和破产!”蒙欣很自信的说道,“所以,科技研发的路线很正常,关键的时期,技术抉择,选对了路线,就有可能赢家通吃,奠定几十年的优势!”

“你是说,未来国内的半导体产业的工艺能做到国际领先?”林棋不仅震惊。

“对!不用ASML的光刻机,我可以研发更好的。”蒙欣傲然说道,“以后,光刻机市场,林蒙科技说了算,不仅仅国内,全球范围内,等到我们的更关键的技术突破出现后,就是那样的格局了。”

……

89年10月9号,林蒙科技公司正是对外宣布,1微米光科技研发成功,瞬间引起了国内外科技行业和媒体强烈关注。

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